[视频] Nanoscribe Quantum X shape 面向一流创新者的纳米级高分辨率3D打印机

适用于高端微细加工任务的最快、最准确的 3D 打印机
Nanoscribe Quantum X shape 是一个真正有能力的多面手。基于双光子聚合 (2PP)，3D 激光光刻系统结合了专有的 3D 打印技术，使其成为几乎任何 2.5D 和 3D 形状的快速原型制作和晶圆级批量处理的最佳工具，具有亚微米精度和准确度。

重塑精度。
作为经过行业验证的 Quantum X 平台中的第二个高分辨率双光子光刻系统，Quantum X shape 提供高分辨率 3D 微加工功能和无与伦比的精度，仅次于 Nanoscribe 的双光子灰度光刻 (2GL®)突破性技术表面图案化。新的 Quantum X 形状的卓越精度依赖于同类中最高的体素调制率和极其精细的地址网格，允许亚体素尺寸形状控制。此外，您还可以从 2GL 体素调整功能中受益，该功能适用​​于 2.5D 结构，具有极其光滑、形状精确或微图案化的表面。

重塑输出。
Quantum X shape 是理想的增材制造工具，可用于生物医学设备、微光学、微机电系统 (MEMS)、微流体、表面工程等应用设计的快速原型制作。晶圆处理功能使 3D 微型零件的晶圆级批处理和小批量生产比以往任何时候都更容易。

重塑可用性。
通过设备的集成触摸屏控制您的打印作业。即使在办公室和通过 nanoConnectX 的多用户配置中，也可以密切关注您的双光子光刻系统。并受益于工业标准和高效的晶圆批量生产。

技术特点简介
在简单的工作流程中以最高精度和设计自由度进行快速原型制作
经行业验证的晶圆级批处理平台
200 个典型的中尺度结构可在一夜之间打印
使用新的 XLF 打印套件一次打印体积高达 30 立方厘米
范围广泛的特定应用和通用打印材料
用于定制和第三方材料的开放式直接激光书写系统

印刷工艺和尺度范围
基于2PP的高分辨率3D打印
2GL 灰度光刻，可实现惊人的快速和准确的表面图案化
纳米级印刷——所有空间方向的特征尺寸控制低至 100 纳米
微型印刷——典型尺寸为 50 至 700 微米
中尺度打印——尺寸可达几毫米
宏观打印——XLF 打印套件可加快批量生产尺寸高达 50 x 50 x 12 mm³ 的大量厘米级物体

XLF Print Set 用于高精度大尺寸打印
通过双光子聚合进行的 3D 打印实际上侧重于在微尺度上制造物体。借助 XLF 打印套件，该制造范围从纳米级和微米级结构扩展到具有最高精度和形状精度的毫米级和厘米级物体。借助新的 XLF 打印套件，您可以受益于一次打印量高达 30 立方厘米的晶圆级批量生产。
XLF Print Set 的 5x 空气物镜使打印区域直径增加到 3,200 µm，工作距离相对较大，达到 18.5 mm。结合极高的扫描速度，XLF 打印套件适用于广泛的应用，例如机械和微流体零件和结构、外壳、连接器或喷嘴的原型制作。

基本参数
表面粗糙度（Ra ） 低至 ≤ 5 纳米
特征尺寸控制 低至 100 纳米
形状精度 低至 ≤ 200 nm
批量处理 一夜之间多达 200 个典型的中尺度结构
自动对焦精度 低至 ≤ 30 nm
单一打印区域直径 高达 ≥ 4,000 µm
最大扫描速度 6.25 m/s 除以镜头倍率2

一般系统属性
印刷技术
基于具有体素调整功能的双光子聚合 (2PP)
双光子灰度光刻 (2GL® )的逐层 3D 打印

承印物
显微镜载玻片（3 x 1” / 76 x 26 mm）
1” 至 6”（25.4 mm 至 150 mm）的晶圆
玻璃、硅以及其他透明和不透明材料

光树脂
Nanoscribe IP Photoresins（聚合物印刷）
Nanoscribe GP-Silica（玻璃印刷）
对第三方和定制材料开放

最大打印面积 50 x 50 平方毫米
给定值可能因光树脂和结构几何形状而异。
1 所有空间方向上的 100 nm 特征尺寸控制
2 例如，对于 10 倍放大率：625 mm/s

设备发布日期：2022年10月